Puolijohdeyrityksille steppereitä eli askelvalottimia toimittava hollantilainen ASML kertoi osavuosikatsauksessaan, että ensi vuonna se toimittaa valmistajille 20-24 EUV-laitteistoa (extreme ultra violet).

Ilmoitus vahvistaa sen, että EUV-litografiassa ollaan siirtymässä kaupalliseen vaiheeseen. Tämä mahdollistaa käytännössä alle 10 nanometrin piirien piirtokuvioiden valottamisen.

Tällä hetkellä stepperien laser piirtää viivaa 193 nanometrin aallonpituudella. Tämä tarkoittaa, että vaikkapa Intelin uusien prosessorien 10 nanometriä lähestyvät kuviot pitää piirtää monimutkaisten linssijärjestelmien läpi. Tätä kutsutaan immersiolitografiaksi.

EUV:ssä valolähteen aallonpituus on 13,5 nanometriä. Myös se edellyttää tarkkaa optista laitteistoa, mutta on selvä että EUV-litografian myötä Mooren laki saa ainakin teoriassa lisää elinaikaa. Ainkin muutaman prosessisukupolven verran.

ASML:n mukaan EUV-laitteistojen markkinat kasvavat jo ensi vuonna lähes 2,5 miljardiin dollariin. Tärkeä askel tekniikan kaupallistamisessa on ollut tuottavuude nostaminen. Tällä hetkellä yhtiö sanoo pääsevänsä tavoitteeseensa, jossa yhdellä laitteistolla voidaan tunnin aikana valottaa 125 piikiekkoa.