JavaScript is currently disabled.Please enable it for a better experience of Jumi.

logotypen

Tulevia seitsemän nanometrin piirejä ei käytännössä voi valmistaa nykyisillä 193 nanometrin laseria käyttävillä askelvalottimilla. Sen takia valmistuksessa tapahtuu iso murros, kun siirrytään EUV-tekniikan käyttämiseen. Murros tapahtuu jo ensi vuonna.

Samsung kertoo juuri lisänneensä 11 nanometrin FinFET-prosessin yrityksille tarjoamiensa valmistusprosessien joukkoon. Sitä pienempään ei nykylaitteistolla päästä. Onneksi Samsung sanoo, että 7LPP-prosessori (7 nm low power process) on silti aikataulussa.

7 nanometrin piireillä kuviot tullaan piirtämään EUV-tekniikalla eli piirtoviivan aallonpituus on 13,5 nanometriä. Samsung sanoo aloittavansa EUV_tuotannon jo ensi vuoden jälkimmäisellä puoliskolla.

Yhtiö kertoo valmistaneensa kaikkiaan lähes 200 tuhatta kiekkoa EUV-litografialla vuodesta 2014 lähtien. Tällä hetkellä esimerkiksi 256 megabitin SRAM-piireissä on päästy 80 prosentin saantoon. Neljä viidestä tuotetusta sirusta siis toimii toivotulla tavalla.

Pitää tietenkin muistaa, että EUV-litografiaa tarvtaan vain kaikkein edistyneimpien piirien valmistukseen. Iso osa puolijohdealasta jatkaa vanhemmilla prosesseilla ja tuotantolaitteilla vielä pitkän aikaa.

 
 

Kustomoitu piiri on täydellinen teollisen internetin sovelluksiin

Teollisen internetin tai IIoT:n (Industrial Internet of Things) tarkoitus on hyvin yksinkertainen: tehdä tuotantolaitoksista mahdollisimman tehokkaita optimoimalla kaikki operaatiot, joihin kuuluvat tuotanto, materiaalien hallinta ja ylläpito.

Lue lisää...

Mobiililaitteiden jännitenotkahdukset voidaan estää

Buck-boost-muuntimen hyödyntäminen esiregulaattorina mobiililaitteessa tarjoaa vakaasti säädetyn väyläjännitteen alijärjestelmien käyttöön. Esiregulaattori estää hetkelliset jännitenotkahdukset, kun akun napajännitteessä esiintyy vaihtelevan kuormavirran aiheuttamia jännitepudotuksia. Samalla se tarjoaa koko järjestelmälle entistä korkeamman hyötysuhteen.

Lue lisää...
 
ETN_fi Robots can´t do backflips, right? https://t.co/KtogoRB25R
ETN_fi Risto Siilasmaa of Nokia: Why you should study AI and Machine Learning and how I did it https://t.co/ifOQ9CtGn0
ETN_fi Electronics integrated in wooden panels? See https://t.co/9VcZEajv4l @TactoTek
ETN_fi 60% of iPhone X users feel that Face ID is better than Touch ID. Have you found Face ID to be an adequate successor… https://t.co/I2Lkl2dHVV
ETN_fi AI-puhelin tulee jatkuvasti älykkäämmäksi. See https://t.co/8D1pMumaYH @HuaweiMobileFI
 
 

ny template