Mikropiirien valmistuksessa joudutaan nyt turvaudutaan monenlaisiin taikatemppuihin, jotta askelvalottimilla saadaan piirretyksi vaikkapa Intelin prosessorin 22 nanometrin suorittimia. Pian tarvitaan uutta tekniikkaa, ja EUV (extreme ultra violet) on suosituin ehdokas seuraavan polven valotustekniikaksi.
EUV-laitteita on testattu jo vuosia. Niissä käytetään 13,5 nanometrin aallonpituutta, joka linssien ja muiden ratkaisujen myötä taipuu huomattavasti tiheämpiin viivanleveyksiin.
Ongelma EUV-valotuksessa on ollut kaupallisesti kestävä tuotantonopeuden saavuttaminen. Kiekkoja on kyllä saatu valmiiksi, mutta suuren mittakaavan tuotanto edellyttää sadan kiekon tuotantovauhtia tunnissa.
IBM kertoo nyt, että sen EUV-testeissä on saatu valmistettua 637 kiekkoa 24 tunnin aikana. 34 kiekkoa tunnissa ei vielä riitä, mutta on merkittävä askel kohti kaupallista EUV-kiekkojen valmistusta.
Yksi ongelma EUV-tuotannossa on valolähteen parantaminen. Tällä hetkellä IBM käyttää ASML:n laitteita, joissa valolähde on 44-wattinen. Vielä tämän vuoden aikana valonlähteen tehon pitäisi kasvaa 80 wattiin.
IBM arvioi, että EUV-litografia tulee piirien valmistukseen vuoden 2020 tienoilla. Silloin uusimmat piirit valmistetaan noin 7 nanometrin viivanleveydellä. Siihen asti tehtaissa saadaan trimmata vanhaa tuotantotekniikkaa yhä pienempiin piirtoviivoihin.