Belgialainen mikroelektroniikan tutkimuskeskus Imec on vihkinyt käyttöön NanoIC-pilottilinjan osana 2 000 neliömetrin puhdastilalaajennusta Leuvenin kampuksellaan. Hanke on keskeinen osa EU:n puolijohdestrategiaa ja tähtää alle kahden nanometrin järjestelmäpiiriteknologiaan.
Pilottilinja on neljä vuotta sitten julkistetun EU:n Chips Act -ohjelman ensimmäinen konkreettinen infrastruktuureja koskeva askel. Uuteen puhdastilaan asennetaan ASML:n seuraavan sukupolven High-NA EUV -litografiajärjestelmä, jonka toimitus on suunniteltu maaliskuulle. Laitteisto mahdollistaa entistä pienemmät viivaleveydet ja tarkemman resoluution ilman monimutkaista monivalotusta.
Alle 2 nanometrin solmussa perinteinen FinFET-arkkitehtuuri on jo korvautumassa GAA- eli gate-all-around- ja nanosheet-rakenteilla. High-NA EUV on keskeinen mahdollistaja näiden rakenteiden valmistuksessa.
NanoIC-linja ei ole kaupallinen foundry, vaan pilottituotantolinja. Sen tehtävä on validoida alle 2 nm -prosessiteknologioita, kehittää uusia materiaaleja ja laiterakenteita, sekä tarjota eurooppalaisille puolijohdeyrityksille, laitevalmistajille ja startupeille pääsy huipputyökaluihin.
Seuraavien viiden vuoden aikana verkostoon integroidaan yli sata uutta työkalua. NanoIC-konsortioon kuuluvat imecin lisäksi muun muassa CEA-Leti, Fraunhofer, VTT, CSSNT-UPB Romaniasta ja Tyndall National Institute Irlannista.
Hankkeen rahoitus tulee EU:n Chips Joint Undertaking -ohjelmasta sekä osallistuvilta jäsenmailta. Tavoite ei ole kilpailla suoraan Aasian jättitehtaiden volyymeilla, vaan varmistaa, että Euroopalla on omaa osaamista ja infrastruktuuria seuraavan sukupolven solmussa.
Alle 2 nanometrin kehitys nähdään keskeisenä erityisesti tekoälyn ja korkean suorituskyvyn laskennan sovelluksissa. NanoIC on EU:n vastaus siihen, että arvoketjun kriittisin osa, kehittynyt valmistusteknologia, ei karkaa kokonaan Euroopan ulkopuolelle.
