Amerikkalaiset ovat jo usean vuoden ajan yrittäneet rajoittaa Kiinan pääsyä edistyksellisimpään tekniikkaan. Viimeisenä keinona USA rajoitti kiinalaisten pääsyä käyttämään EUV-litografiaa, jolla valmistetaan kaikkien uusimmat mikropiirit. Pyrkimykset näyttävät epäonnistuvan.
Pari viikkoa sitten kohistiin siitä, miten kiinalainen SMIC olisi valmistanut Huaweille kännykkäpiirejä 7 nanometrin prosessissa. Nyt taiwanilaisen TSMC:n lakiosastoon kuuluva Dick Thurston kertoo EETimes-lehdelle, että on vain ajan kysymys, milloin SMIC pystyy valmistamaan viiden nanometrin siruja.
Amerikkalaisille tämä on nolo takaisku. EUV-laitteita valmistaa vain hollantilainen ASML ja näiden laitteiden viennin kieltämisen Kiinaan piti varmistaa, että SMIC ja muut mikropiirejä Kiinassa valmistavat yritykset ovat tuomittuja jäämään 14 nanometrin viivanleveyteen. Käytännössä tämä olisi tarkoittanut sitä, että kiinalaispiirit olisivat tuomittuja olemaan ikuisesti hitaampia kuin läntiset tai Taiwanissa valmistetut vastineensa.
Thurstonin mukaan SMIC:n kehityksen taustalla on aiemmin TSMC:ssä työskennellyt Liang Mong-song, jota Thurston nimittää yhdeksi puolijohdealan ”nerokkaimmista tutkijoista”.
EETimes-lehdessä kiistetään myös aiemmat arviot siitä, että Huawein 7 nanometrin siruissa saanto olisi vain 10 prosentin luokkaa. Sen sijaan noin 70 prosenttia siruista jokaisella kiekolla on toimivia ja luku paranee koko ajan.
EETimes artikkeli täällä.