San Franciscossa käynnissä olevassa ISSCC-konferenssissa esitellään laajasti uusia mikroelektroniikan ratkaisuja. Renesas esittelee teknisessä ohjelmassa ensimmäisen yhden sirun Qi-lähetinpiirin, joka mittaa AC- ja DC-lähettimen tehoa tarkkuuden ja turvallisuuden parantamiseksi.
Renesas on ensimmäisenä yrityksenä ehittänyt yhden sirun lähetinteknologian (Tx), joka pystyy mittaamaan suoraan sekä tasa- että vaihtovirtalähteen komponentteja. Tällä lähestymistavalla lähetetty teho voidaan mitata tarkemmin, mikä tarjoaa keinon havaita tarkasti teholähettimen (PTx) ja PRx-tehotasojen välinen epäsopivuus.
Lisäksi DC- ja AC-käämin virrantunnistin voi havaita, jos pieni metallinen vieras esine, kuten paperiliitin, on juuttunut lähettimen ja vastaanottimen väliin, mikä muuten saattaa aiheuttaa kohteen kuumenemisen ja vaarantaa turvallisuuden. Lähetin on varustettu analogisilla AC-kelan virta-antureilla ja tukee jopa neljää lähetinkäämiä latausalueen lisäämiseksi, mikä parantaa loppukäyttäjän latauskokemusta.
Yksi keskeisistä ISSCC-esittelyssä esitellyistä innovaatioista on adaptiivinen ZVS, joka varmistaa, että teho-MOSFETit kytkeytyvät, kun niiden nielulähdejännite on pudonnut 0 volttiin, mikä vähentää kytkentähäviöitä ja lisää tehokkuutta. Koska mukautuva ZVS-tekniikka toimii laajoissa kuormitusolosuhteissa, se on ihanteellinen puolisiltainverttereille, jotka syöttävät vaihtelevia kuormia. Lisäksi ZVS-tekniikka vähentää EMI-häiriöitä alentamalla sähkömagneettiseksi kohinaksi muuntuvan energian määrää. Perinteisiin menetelmiin verrattuna ZVS:n käyttö vähentää EMI:tä 4 desibelillä (dB) ja voi lisätä PTx-tehokkuutta 1,7 % tai enemmän.
ZVS auttaa myös pidentämään sähköjärjestelmien käyttöikää monissa sovelluksissa, kuten autojen ohjaamon latureissa, kalibroimalla automaattisesti vertailijan alkukynnyksen. Lisäksi järjestelmässä on erittäin ohjelmoitava pulssin leveysmodulaatio (PWM) -generaattori, joka ohjaa lähettimen tehonsyöttöominaisuuksia varmistaakseen, että ladattava laite saa oikean määrän tehoa. Tämä parantaa latausprosessin tarkkuutta ja vakautta ja antaa paremman hallinnan toimitettuun tehoon.