Intel on yltänyt merkittävään virstanpylvääseen, kun se on aloittanut piirien tuotannon EUV-litografialla Leixlipin tehtaassaan Irlannissa. Samalla Intel on ensimmäinen valmistaja Euroopassa, joka ryhtyy valmistamaan siruja EUV-tekniikalla.
Toisin kuin perinteinen optinen litografia, joka käyttää syvän ultraviolettivalon (DUV) aallonpituuksia eli 193 nanometrin laseria, EUV-litografia käyttää äärimmäisen lyhyitä aallonpituuksia ultraviolettispektrissä (noin 13,5 nanometriä). Nämä aallonpituudet tuotetaan plasmapohjaisella valonlähteellä.
Karkeasti ottaen esimerkiksi 7 nanometrin prosessissa – kuten Intelin Irlannissa käynnistämä Intel 4 -prosessi - on helpompi valmistaa piirejä EUV-tekniikalla kuin perinteisillä askelvalottimilla. Irlannissa Intelillä on seitsemän EUL-laitteistoa, jotka on toimittanut hollantilainen ASML.
Intelin mukaan Irlannissa tullaan valmistamaan esimerkiksi Meteor Lake -koodinimellä kehitettyjä Core Ultra -prosessoreita sekä seuraavan sukupolven Xeon-prosessoreita, jotka valmistetaan Intel 3 -prosessissa. Tämä on siis Intelin 5 nanometrin prosessi.
Intelin tapa nimetä prosessisukupolvensa on hieman hämmentävä. Keskeistä on nyt, että EUV-tuotannon alkaessa yritys voi saada kilpailijansa kiinni. Ennen kaikkea puhutaan tietysti TSMC:stä, joka valmistaa piirejä jo 3 nanometrin prosessissa.