Intel on yltänyt merkittävään virstanpylvääseen, kun se on aloittanut piirien tuotannon EUV-litografialla Leixlipin tehtaassaan Irlannissa. Samalla Intel on ensimmäinen valmistaja Euroopassa, joka ryhtyy valmistamaan siruja EUV-tekniikalla.
Toisin kuin perinteinen optinen litografia, joka käyttää syvän ultraviolettivalon (DUV) aallonpituuksia eli 193 nanometrin laseria, EUV-litografia käyttää äärimmäisen lyhyitä aallonpituuksia ultraviolettispektrissä (noin 13,5 nanometriä). Nämä aallonpituudet tuotetaan plasmapohjaisella valonlähteellä.
Karkeasti ottaen esimerkiksi 7 nanometrin prosessissa – kuten Intelin Irlannissa käynnistämä Intel 4 -prosessi - on helpompi valmistaa piirejä EUV-tekniikalla kuin perinteisillä askelvalottimilla. Irlannissa Intelillä on seitsemän EUL-laitteistoa, jotka on toimittanut hollantilainen ASML.
Intelin mukaan Irlannissa tullaan valmistamaan esimerkiksi Meteor Lake -koodinimellä kehitettyjä Core Ultra -prosessoreita sekä seuraavan sukupolven Xeon-prosessoreita, jotka valmistetaan Intel 3 -prosessissa. Tämä on siis Intelin 5 nanometrin prosessi.
Intelin tapa nimetä prosessisukupolvensa on hieman hämmentävä. Keskeistä on nyt, että EUV-tuotannon alkaessa yritys voi saada kilpailijansa kiinni. Ennen kaikkea puhutaan tietysti TSMC:stä, joka valmistaa piirejä jo 3 nanometrin prosessissa.
Virtaamamittaus on monissa laitteissa kriittinen mutta usein ongelmallinen toiminto. Perinteiset mekaaniset anturit kuluvat ja jäävät sokeiksi pienille virtausnopeuksille. Ultraäänitekniikkaan perustuvat valmiit moduulit tarjoavat nyt tarkan, huoltovapaan ja helposti integroitavan vaihtoehdon niin kuluttaja- kuin teollisuussovelluksiin.